晶体管LCD（TFT-LCD）项目可行性研究报告 晶体管LCD（TFT-LCD）项目可行性分析报告

 

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作为投资决策前必不可少的关键环节，可行性研究报告是在前一阶段的项目建议书获得审批通过的基础上，主要对项目市场、技术、财务、工程、经济和环境等方面进行精.确系统、完备无遗的分析，完成包括市场和销售、规模和产品、厂址、原辅料供应、工艺技术、设备选择、人员组织、实施计划、投资与成本、效益及风险等的计算、论证和评价，选定最佳方案，依此就是否应该投资开发该项目以及如何投资，或就此终止投资还是继续投资开发等给出结论性意见，为投资决策提供科学依据，并作为进一步开展工作的基础。

 

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tft-lcd是薄膜晶体管液晶显示器英文thi film trasistor-liquid crystal display字头的缩写。 tft-lcd技术是微电子技术与液晶显示器技术巧妙结合的一种技术。人们利用在si上进行微电子精细加工的技术，移植到在大面积玻璃上进行tft阵列的加工，再将该阵列基板与另一片带彩色滤色膜的基板，利用与业已成熟的lcd技术，形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片贴覆等过程，最后形成液晶显示器。。 

 

泓域咨询机构（简称“泓域咨询”）成立于2011年，是一家专注于产业规划咨询、项目申报咨询、高新技术企业孵化认定，并提供全方位解决方案的中小企业发展战略咨询机构，在全行业中首创了“互联网+咨询”的服务模式，可为中小企业定制 “企业+政策+市场”全生命周期发展规划方案。

 

经过多年的发展，泓域咨询已累计为超过1000家中小企业提供了产业发展及项目规划服务，涵盖工业制造、农业综合开发、商业综合体、互联网等多个行业。为更好的服务于中小企业发展，泓域咨询提出了“中小企业2.0发展孵化”服务模式，旨在通过资源整合为具有发展潜力的中小企业提供一站式培育孵化服务。

 

产业规划

1、项目立项咨询、工业园入驻咨询、项目备案申请咨询、产业政策分析、项目规划咨询等。

2、编写项目可行性研究报告、项目建议书、项目申请报告、资金申请报告等。

3、企业发展规划咨询、编写商业计划书、投资分析报告等。

 

项目申报

1、中小企业发展专项资金申报、民营经济专项资金申报等。

2、各地方性鼓励中小企业发展资金项目申报，例如：工业振兴专项资金申报、产业聚集项目专项资金申报、产业精准扶贫专项资金申报等。

3、特色企业申请，例如：产业龙头企业申报、产业示范性企业申报等。

 

 

《晶体管LCD（TFT-LCD）项目可行性研究报告》通过对晶体管LCD（TFT-LCD）项目的市场需求、资源供应、建设规模、工艺路线、设备选型、环境影响、资金筹措、盈利能力等方面的研究，从技术、经济、工程等角度对晶体管LCD（TFT-LCD）项目进行调查研究和分析比较，并对晶体管LCD（TFT-LCD）项目建成以后可能取得的经济效益和社会环境影响进行科学预测，为晶体管LCD（TFT-LCD）项目决策提供公正、可靠、科学的投资咨询意见。具体而言，本报告体现如下几方面用途： 

 

　　—— 用于报送发改委立项、核准或备案

　　—— 用于申请土地

　　—— 用于申请国家专项资金

　　—— 用于申请政府补贴

　　—— 用于融资、银行贷款

　　—— 用于对外招商合作

　　—— 用于上市募投

　　—— 用于园区评价定级

　　—— 用于企业工程建设指导

　　—— 用于企业节能审查

　　—— 用于环保部门对晶体管LCD（TFT-LCD）项目进行环境评价

　　—— 用于安监部门对晶体管LCD（TFT-LCD）项目进行安全审查

 

　泓域咨询拥有一批高素质、长期从事投资咨询、工程咨询、企业管理咨询策划、企业营销策划、商业品牌推广等方面咨询服务团队。公司深知以质量求生存，既是企业的根本，也是在激烈竞争中立于不败的关键。在提供咨询策划服务的过程中，以高素质的人员、严格的规范、富有成效的管理努力打造一流的服务品质。公司始终以严格标准、精心操作、严密管理来确保一流服务质量。泓域咨询在成员的共同努力下，赢得了良好的市场声誉和行业评价。与此同时，泓域咨询和许多大型外资、合资及世界500强企业建立了长久的合作关系，也和各个链内合作伙伴建立了有效的合作网络。泓域咨询，中国领先的企业咨询策划服务机构。 

 

tft-lcd的制造工艺有以下几部分：在tft基板上形成tft阵列；在彩色滤光片基板上形成彩色滤光图案及ito导电层；用两块基板形成液晶盒；安装外围电路、组装背光源等的模块组装。 　1. 在tft基板上形成tft阵列的工艺 　现已实现产业化的tft类型包括：非晶硅tft（a-si tft）、多晶硅tft（p-si tft）、单晶硅tft(c-si tft)几种。目前使用最多的仍是a-si tft。 　a-si tft的制造工艺是先在硼硅玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。一般掩膜曝光用步进曝光机。第二步是用pecvd法进行连续成膜，形成six膜、非掺杂a-si膜，掺磷+a-si膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成tft部分的a-si图案。第三步是用溅射成膜法形成透明电极（ito膜），再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案。第四步栅极端部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。第五步是将al等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成tft的源极、漏极以及信号线图案。最后用pecvd法形成保护绝缘膜，再用掩膜曝光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形，(该保护膜用于对栅极以及信号线电极端部和显示电极的保护)。至此，整个工艺流程完成。 　tft阵列工艺是tft-lcd制造工艺的关键,也是设备投资最多的部分。整个工艺要求在很高的净化条件（例如10级）下进行。 　2. 在彩色滤光片（cf）基板上形成彩色滤光图案的工艺 　彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。 　颜料分散法的第一步是将颗粒均匀的微细颜料（平均粒径小于0.1μm）(r、g、b三色)分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成r. g. b三色图案。在制造中使用光蚀刻技术，所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。 　为了防止漏光，在rgb三色交界处一般都要加黑矩阵（bm）。以往多用溅射法形成单层金属铬膜，现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的bm膜或树脂混合碳的树脂型bm。 　此外，还需要在bm上制做一层保护膜及形成it0电极,由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有tft的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题，使彩色滤光片的各单元与tft基板各像素相对应。 　3. 液晶盒的制备工艺 　首先是在上下基板表面分别涂敷聚酰亚胺膜并通过摩擦工艺，形成可诱导分子按要求排列的取向膜。之后在tft阵列基板周边布好密封胶材料，并在基板上喷洒衬垫。同时在cf基板的透明电极末端涂布银浆。然后将两块基板对位粘接，使cf图案与tft像素图案一一对正，再经热处理使密封材料固化。在印刷密封材料时，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。 　近年来,随着技术进步和基板尺寸的不断加大,在盒的制做工艺上也有很大的改进,比较有代表性的是灌晶方式的改变,从原来的成盒后灌注改为odf法,即灌晶与成盒同步进行。另外.垫衬方式也不再采用传统的喷洒法,而是直接在阵列上用光刻法制作。 　4. 外围电路、组装背光源等的模块组装工艺 　在液晶盒制作工艺完成后，在面板上需要安装外围驱动电路，再在两块基板表面贴上偏振片。如果是透射型lcd.还要安装背光源。

 

【晶体管LCD（TFT-LCD）项目可行性研究报告内容】 

 

　　第一部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目总论 

　　第二部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目建设背景、必要性、可行性 

　　第三部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目产品市场分析 

　　第四部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目产品规划方案 

　　第五部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目建设地与土建总规 

　　第六部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目环保、节能与劳动安全方案 

　　第七部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目组织和劳动定员 

　　第八部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目实施进度安排 

　　第九部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目财务评价分析 

　　第十部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目财务效益、经济和社会效益评价 

　　第十一部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目风险分析及风险防控 

　　第十二部分 晶体管LCD（TFT-LCD）项目可行性研究结论与建议